《RDL中介层的酸性镀铜工艺》

 山口 敦也 博士

 JCU株式会社电子发展部研发中心

演讲人简介：

山口先生自2024年起担任JCU株式会社的研发人员。JCU是一家从事表面处理化学品制造与供应的公司。他主要从事酸性铜电镀用添加剂的研发工作，该类添加剂广泛应用于电子领域，如先进封装技术等。