《数字光刻发展与趋势》

     梅文辉 博士

     芯碁微装 首席科学家

演讲摘要：

数字光刻技术凭借其无掩模、高精度、高灵活性等优势，正成为驱动先进封装产业变革的核心力量。本报告将系统梳理数字光刻技术的发展历程与核心技术演进，重点分析其在面板级封装、2.5D/3D集成等新兴应用场景中的产业化进展。同时，将深入探讨AI算力爆发带来的市场机遇与未来技术趋势。

演讲人简介：

合肥芯碁微电子装备股份有限公司首席科学家，DMD无掩模光刻技术发明人。

长期从事微纳光刻技术研究，在直写光刻领域拥有深厚学术积累与国际视野。主导研发的多款直写光刻设备已实现量产，广泛应用于先进封装、集成电路及高阶PCB制造等领域。