《数字光刻助力科研多场景应用方案》

     陈伟龙 先生

     芯碁微装 产品经理

演讲摘要：

随着微纳制造技术不断向高精度、数字化和多样化方向发展，科研领域对光刻设备的灵活性、分辨率、工艺适配能力及研发效率提出了更高要求。数字光刻技术无需传统掩模版，可直接将设计图形转换为曝光数据，具有研发周期短、图形修改灵活、材料适配范围广等特点，为微纳器件研发和科研成果转化提供了高效工具。

本报告将结合芯碁微装在直写光刻领域的技术积累与设备应用实践，介绍数字光刻在MEMS、微流控、微纳光学、先进封装、新型显示、传感器及高校实验教学等场景中的应用方案，探讨数字光刻如何提升科研试制效率、降低研发成本，并助力微纳制造技术创新及科研成果产业化。

演讲人简介：

现任芯碁微装产品经理，长期负责直写光刻产品线的战略规划与技术落地，以高分辨率、大面积曝光、多材料兼容为核心技术特性，覆盖从微米到亚微米级的精密图形化需求，已成功应用于掩膜版制版、MEMS、先进封装、科研原型验证等多类场景。